IRIS

Comparative study of porosity in low-k SiOCH thin films obtained at different deposition conditions

Brusa, Roberto Sennen;Mariazzi, Sebastiano;Karwasz, Grzegorz;Zecca, Antonio
2004-01-01
2004
MATERIALS SCIENCE FORUM
2-s2.0-3142656804
WOS:000189406800078
Brusa, Roberto Sennen; C., Macchi; Mariazzi, Sebastiano; M., Spagolla; Karwasz, Grzegorz; Zecca, Antonio
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