Ar doping of CH4 plasmas for carbon film deposition / C. Riccardi; R. Barni; M. Fontanesi; P. Tosi. - In: CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS. - ISSN 0011-4626. - STAMPA. - 50(2000), pp. 389-396.
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Titolo: | Ar doping of CH4 plasmas for carbon film deposition | |
Autori: | C. Riccardi; R. Barni; M. Fontanesi; P. Tosi | |
Autori Unitn: | ||
Titolo del periodico: | CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS | |
Anno di pubblicazione: | 2000 | |
Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-0012533849 | |
Codice identificativo WOS: | WOS:000173132300069 | |
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1007/BF03165916 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/93389 | |
Citazione: | Ar doping of CH4 plasmas for carbon film deposition / C. Riccardi; R. Barni; M. Fontanesi; P. Tosi. - In: CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS. - ISSN 0011-4626. - STAMPA. - 50(2000), pp. 389-396. | |
Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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