CINECA IRIS Institutional Research Information System
IRIS è l'Anagrafe della ricerca dell'Università degli Studi di Trento, e ha lo scopo di raccogliere, documentare, conservare e diffondere, anche ad accesso aperto, la produzione scientifica degli autori afferenti all'Università degli Studi di Trento.
EnglishSilicon nanocluster sensitization of erbium ions under low-energy optical excitation / Prtljaga, Nikola; Daniel Navarro, Urrios; Pitanti, Alessandro; Federico Ferrarese, Lupi; Blas, Garrido; Pavesi, Lorenzo. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 111(2012), p. 094314. [10.1063/1.472626]
Scheda prodotto non validato
I dati visualizzati non sono stati ancora sottoposti a validazione formale da parte dello Staff di IRIS, ma sono stati ugualmente trasmessi al Sito Docente Cineca (Loginmiur).
| Titolo: | Silicon nanocluster sensitization of erbium ions under low-energy optical excitation | |
| Autori: | Prtljaga, Nikola; Daniel Navarro, Urrios; Pitanti, Alessandro; Federico Ferrarese, Lupi; Blas, Garrido; Pavesi, Lorenzo | |
| Autori Unitn: | ||
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | |
| Anno di pubblicazione: | 2012 | |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-84864248747 | |
| Codice identificativo WOS: | WOS:000304109900128 | |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.472626 | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/92459 | |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/11572/92459
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione
Copyright © 2022