Role of thermal-diffusion in the redistribution of Cu during pulsed laser irradiating of Cu-implanted Al

Miotello, Antonio; Dona Dalle Rose, L. F.; Desalvo, A.

doi:10.1063/1.93014

Role of thermal-diffusion in the redistribution of Cu during pulsed laser irradiating of Cu-implanted Al

Miotello, Antonio;L. F. Dona Dalle Rose;A. Desalvo

1982-01-01

Scheda breve

Scheda completa

Scheda completa (DC)

	Anno di pubblicazione (Date of publication)
	
				1982
			
	Titolo del periodico (Journal title)
	
				APPLIED PHYSICS LETTERS
			
	Numero e parte del fascicolo (Issue number and part)
	
				n. 2
			
	DOI
	
				https://dx.doi.org/10.1063/1.93014
			
	Codice Scopus (Scopus identifier)
	
				2-s2.0-0039705724
			
	Codice WOS (WOS identifier)
	
				WOS:A1982NA28300015
			
	Tutti gli autori
	
						Miotello, Antonio; L. F., Dona Dalle Rose; A., Desalvo
					
	Appare nelle tipologie:
	
				03.1 Articolo su rivista (Journal article)