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EnglishEffects of preferential sputtering and enhanced diffusion-processes on the evolution of la-implanted profile in Ni / V. N., Kulkarni; Miotello, Antonio. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 57:n. 8(1985), pp. 2977-2979. [10.1063/1.335191]
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| Titolo: | Effects of preferential sputtering and enhanced diffusion-processes on the evolution of la-implanted profile in Ni | |
| Autori: | V. N., Kulkarni; Miotello, Antonio | |
| Autori Unitn: | ||
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | |
| Anno di pubblicazione: | 1985 | |
| Numero e parte del fascicolo: | n. 8 | |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-36549095108 | |
| Codice identificativo ISI: | WOS:A1985AHS7300050 | |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.335191 | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/91837 | |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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http://hdl.handle.net/11572/91837
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