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EnglishEffects of preferential sputtering and enhanced diffusion-processes on the evolution of la-implanted profile in Ni / V. N. Kulkarni; A. Miotello. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 57:n. 8(1985), pp. 2977-2979.
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http://hdl.handle.net/11572/91837| Titolo: | Effects of preferential sputtering and enhanced diffusion-processes on the evolution of la-implanted profile in Ni |
| Autori Unitn: | Miotello, Antonio |
| Anno di pubblicazione: | 1985 |
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/91837 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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