Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy / Mauro, Ciappa; Alexander, Koschik; Dapor, Maurizio; Wolfgang, Fichtner. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 50(2010), pp. 1407-1412.
Titolo: | Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy |
Autori: | Mauro, Ciappa; Alexander, Koschik; Dapor, Maurizio; Wolfgang, Fichtner |
Autori Unitn: | |
Titolo del periodico: | MICROELECTRONICS RELIABILITY |
Anno di pubblicazione: | 2010 |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/84275 |
Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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