Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy

Mauro, Ciappa; Alexander, Koschik; Dapor, Maurizio; Wolfgang, Fichtner

CINECA IRIS Institutional Research Information System

IRIS è l'Anagrafe della ricerca dell'Università degli Studi di Trento, e ha lo scopo di raccogliere, documentare, diffondere e conservare le informazioni relative alla produzione scientifica degli autori afferenti all'Università degli Studi di Trento.

Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy / Mauro Ciappa; Alexander Koschik; Maurizio Dapor; Wolfgang Fichtner. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 50(2010), pp. 1407-1412.

Titolo:	Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy
Autori Unitn:	Mauro Ciappa Alexander Koschik Dapor, Maurizio Wolfgang Fichtner mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Anno di pubblicazione:	2010
Titolo del periodico:	MICROELECTRONICS RELIABILITY
Citazione:	Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy / Mauro Ciappa; Alexander Koschik; Maurizio Dapor; Wolfgang Fichtner. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 50(2010), pp. 1407-1412.
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/84275
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/11572/84275

Citazioni

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione