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EnglishModeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy / Mauro Ciappa; Alexander Koschik; Maurizio Dapor; Wolfgang Fichtner. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 50(2010), pp. 1407-1412.
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http://hdl.handle.net/11572/84275| Titolo: | Modeling secondary electron images for linewidth measurement by critical dimension scanning electron microscopy |
| Autori Unitn: | Dapor, Maurizio |
| Anno di pubblicazione: | 2010 |
| Titolo del periodico: | MICROELECTRONICS RELIABILITY |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/84275 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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