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EnglishInterference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists / A., Ritucci; A., Reale; P., Zuppella; L., Reale; P., Tucceri; G., Tomassetti; Bettotti, Paolo; Pavesi, Lorenzo. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 102:no. 3(2007), pp. 034313-034313-4.
| Titolo: | Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists | |
| Autori: | A., Ritucci; A., Reale; P., Zuppella; L., Reale; P., Tucceri; G., Tomassetti; Bettotti, Paolo; Pavesi, Lorenzo | |
| Autori Unitn: | ||
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | |
| Anno di pubblicazione: | 2007 | |
| Numero e parte del fascicolo: | no. 3 | |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-34548040217 | |
| Codice identificativo WOS: | WOS:000249240600090 | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/83085 | |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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http://hdl.handle.net/11572/83085
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