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EnglishInterference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists / A. Ritucci; A. Reale; P. Zuppella; L. Reale; P. Tucceri; G. Tomassetti; P. Bettotti; L. Pavesi. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 102:no. 3(2007), pp. 034313-034313-4.
| Titolo: | Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists |
| Autori Unitn: | |
| Anno di pubblicazione: | 2007 |
| Titolo del periodico: | |
| Citazione: | Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists / A. Ritucci; A. Reale; P. Zuppella; L. Reale; P. Tucceri; G. Tomassetti; P. Bettotti; L. Pavesi. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 102:no. 3(2007), pp. 034313-034313-4. |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/83085 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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