Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists

Ritucci, A.; Reale, A.; Zuppella, P.; Reale, L.; Tucceri, P.; Tomassetti, G.; Bettotti, P.; Pavesi, L.

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Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists / A. Ritucci; A. Reale; P. Zuppella; L. Reale; P. Tucceri; G. Tomassetti; P. Bettotti; L. Pavesi. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 102:no. 3(2007), pp. 034313-034313-4.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11572/83085

Titolo:	Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists
Autori Unitn:	Bettotti, Paolo Pavesi, Lorenzo
Anno di pubblicazione:	2007
Titolo del periodico:	JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/83085
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

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