Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists

Ritucci, A.; Reale, A.; Zuppella, P.; Reale, L.; Tucceri, P.; Tomassetti, G.; Bettotti, Paolo; Pavesi, Lorenzo

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Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists / A., Ritucci; A., Reale; P., Zuppella; L., Reale; P., Tucceri; G., Tomassetti; Bettotti, Paolo; Pavesi, Lorenzo. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - Vol. 102:no. 3(2007), pp. 034313-034313-4.

Titolo:	Interference lithography by a soft x-ray laser beam: Nanopatterning on photoresists
Autori:	A., Ritucci; A., Reale; P., Zuppella; L., Reale; P., Tucceri; G., Tomassetti; Bettotti, Paolo; Pavesi, Lorenzo
Autori Unitn:	A. Ritucci A. Reale P. Zuppella L. Reale P. Tucceri G. Tomassetti Bettotti, Paolo Pavesi, Lorenzo mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Titolo del periodico:	JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Anno di pubblicazione:	2007
Numero e parte del fascicolo:	no. 3
Codice identificativo Scopus:	2-s2.0-34548040217
Codice identificativo ISI:	WOS:000249240600090
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/83085
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

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