Interferometric method for monitoring electrochemical etching of thin films

Gaburro, Zeno; Oton, C. J.; Bettotti, Paolo; Dal Negro, L.; Prakash, V. G.; Cazzanelli, Massimo; Pavesi, Lorenzo

Interferometric method for monitoring electrochemical etching of thin films

Gaburro, Zeno;C. J. Oton;Bettotti, Paolo;L. Dal Negro;V. G. Prakash;Cazzanelli, Massimo;Pavesi, Lorenzo

2003-01-01

Scheda breve

Scheda completa

Scheda completa (DC)

	Anno di pubblicazione (Date of publication)
	
				2003
			
	Titolo del periodico (Journal title)
	
				JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
			
	Numero e parte del fascicolo (Issue number and part)
	
				6
			
	Tutti gli autori
	
						Gaburro, Zeno; C. J., Oton; Bettotti, Paolo; L., Dal Negro; V. G., Prakash; Cazzanelli, Massimo; Pavesi, Lorenzo
					
	Appare nelle tipologie:
	
				03.1 Articolo su rivista (Journal article)

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11572/74688

Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni

ND

ND

ND

ND

Interferometric method for monitoring electrochemical etching of thin films

Gaburro, Zeno;C. J. Oton;Bettotti, Paolo;L. Dal Negro;V. G. Prakash;Cazzanelli, Massimo;Pavesi, Lorenzo

2003-01-01

Scheda breve Scheda completa Scheda completa (DC)

Informazioni

Attenzione

Citazioni

social impact

Conferma cancellazione

Scheda breve

Scheda completa

Scheda completa (DC)