IRIS

Effects of thermal annealing on the structural properties of sputtered W-Si-N diffusion barriers

Boscolo Marchi, Enrico;Quaranta, Alberto;Della Mea, Gianantonio;Mariotto, Gino;
2004-01-01
2004
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
4-6
A., Vomiero; Boscolo Marchi, Enrico; S., Frabboni; Quaranta, Alberto; Della Mea, Gianantonio; Mariotto, Gino; L., Felisari; M., Butturi
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11572/73462
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact