r.f. magnetron sputtered thin films of nitrided Co,Ni-based alloy / Scardi, Paolo; Y., Dong; Tosi, Carlo. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B. - ISSN 1071-1023. - STAMPA. - 19:5(2001), pp. 2394-2399.
Scheda prodotto non validato
I dati visualizzati non sono stati ancora sottoposti a validazione formale da parte dello Staff di IRIS, ma sono stati ugualmente trasmessi al Sito Docente Cineca (Loginmiur).
Titolo: | r.f. magnetron sputtered thin films of nitrided Co,Ni-based alloy | |
Autori: | Scardi, Paolo; Y., Dong; Tosi, Carlo | |
Autori Unitn: | ||
Titolo del periodico: | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B | |
Anno di pubblicazione: | 2001 | |
Numero e parte del fascicolo: | 5 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/73241 | |
Citazione: | r.f. magnetron sputtered thin films of nitrided Co,Ni-based alloy / Scardi, Paolo; Y., Dong; Tosi, Carlo. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B. - ISSN 1071-1023. - STAMPA. - 19:5(2001), pp. 2394-2399. | |
Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione