IRIS

Electrical properties of TiN_x films on p-silicon substrates obtained by reactive ion beam assisted deposition technnique

Miotello, Antonio
1998-01-01
1998
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS
8
A., Narsale; Y., Ali; D., Kothari; L., Guzman; Miotello, Antonio
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11572/58792
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
  • OpenAlex ND
social impact