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Nanofabrication of hight aspect ratio sub-10 nm silicon nanowires using plasma etch technologies / Mirza, M; Velha, P; Docherty, K; Samarelli, A; Ternent, G; Paul, D J. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B. - ISSN 1071-1023. - 30:6(2012).

Nanofabrication of hight aspect ratio sub-10 nm silicon nanowires using plasma etch technologies

Velha P
Secondo
;
2012-01-01
2012
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B
6
2-s2.0-84870327848
WOS:000311667300058
Mirza, M; Velha, P; Docherty, K; Samarelli, A; Ternent, G; Paul, D J
Nanofabrication of hight aspect ratio sub-10 nm silicon nanowires using plasma etch technologies / Mirza, M; Velha, P; Docherty, K; Samarelli, A; Ternent, G; Paul, D J. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B. - ISSN 1071-1023. - 30:6(2012).
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