IRIS

High quality factor 1-D Er3+-activated dielectric microcavity fabricated by RF-sputtering / Valligatla, S., Chiasera, A., Varas, S., Bazzanella, N., Rao, D.N., Righini, G.C., Ferrari, M.. - In: OPTICS EXPRESS. - ISSN 1094-4087. - ELETTRONICO. - 20:19(2012), pp. 21214-21222.

High quality factor 1-D Er3+-activated dielectric microcavity fabricated by RF-sputtering

Chiasera A;
2012-01-01
2012
OPTICS EXPRESS
19
WOS:000308865600064
Valligatla, S; Chiasera, A; Varas, S; Bazzanella, N; Rao, D. N.; Righini, G C; Ferrari, M
High quality factor 1-D Er3+-activated dielectric microcavity fabricated by RF-sputtering / Valligatla, S., Chiasera, A., Varas, S., Bazzanella, N., Rao, D.N., Righini, G.C., Ferrari, M.. - In: OPTICS EXPRESS. - ISSN 1094-4087. - ELETTRONICO. - 20:19(2012), pp. 21214-21222.
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11572/342898
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 60
  • OpenAlex ND
social impact