Microstructure, oxidation and H2-permeation resistance of TiA1N films deposited by DC megnetron sputtering technique / B., Man; L., Guzman; Miotello, Antonio; Adami, Marco. - In: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. - ISSN 0257-8972. - STAMPA. - 180:1(2004), pp. 9-14.
Titolo: | Microstructure, oxidation and H2-permeation resistance of TiA1N films deposited by DC megnetron sputtering technique | |
Autori: | B., Man; L., Guzman; Miotello, Antonio; Adami, Marco | |
Autori Unitn: | ||
Titolo del periodico: | SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY | |
Anno di pubblicazione: | 2004 | |
Numero e parte del fascicolo: | 1 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/27250 | |
Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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