CINECA IRIS Institutional Research Information System
IRIS è l'Anagrafe della ricerca dell'Università degli Studi di Trento, e ha lo scopo di raccogliere, documentare, conservare e diffondere, anche ad accesso aperto, la produzione scientifica degli autori afferenti all'Università degli Studi di Trento.
EnglishSilicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition / Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 101:11(2007), pp. 113510-1-113510-7.
| Titolo: | Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Autori: | Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca |
| Autori Unitn: | |
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| Anno di pubblicazione: | 2007 |
| Numero e parte del fascicolo: | 11 |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-34250643224 |
| Codice identificativo ISI: | WOS:000247306000037 |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.2740335 |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/23293 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/11572/23293
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione
Copyright © 2020