IRIS

Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Daldosso, Nicola;Larcheri, Silvia;Mariotto, Gino;Dalba, Giuseppe;Pavesi, Lorenzo;
2007-01-01
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
11
2-s2.0-34250643224
WOS:000247306000037
Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca
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