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EnglishSilicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition / Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 101:11(2007), pp. 113510-1-113510-7.
| Titolo: | Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Autori: | Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca |
| Autori Unitn: | |
| Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| Anno di pubblicazione: | 2007 |
| Numero e parte del fascicolo: | 11 |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-34250643224 |
| Codice identificativo ISI: | WOS:000247306000037 |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.2740335 |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/23293 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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http://hdl.handle.net/11572/23293
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