Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Daldosso, Nicola; Das, G.; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; Irrera, A.; Priolo, F.; Iacona, F.; Rocca, F.

doi:10.1063/1.2740335

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Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition / N. Daldosso ; G. Das ; S. Larcheri ; G. Mariotto ; G. Dalba ; L. Pavesi ; A. Irrera ; F. Priolo ; F. Iacona ; F. Rocca. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 101:11(2007), pp. 113510-1-113510-7.

Titolo:	Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
Autori Unitn:	Daldosso, Nicola G. Das Larcheri, Silvia Mariotto, Gino Dalba, Giuseppe Pavesi, Lorenzo A. Irrera F. Priolo F. Iacona F. Rocca mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Anno di pubblicazione:	2007
Titolo del periodico:	JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/23293
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

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