Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition / Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 101:11(2007), pp. 113510-1-113510-7.
Titolo: | Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition |
Autori: | Daldosso, Nicola; G., Das; Larcheri, Silvia; Mariotto, Gino; Dalba, Giuseppe; Pavesi, Lorenzo; A., Irrera; F., Priolo; F., Iacona; F., Rocca |
Autori Unitn: | |
Titolo del periodico: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
Anno di pubblicazione: | 2007 |
Numero e parte del fascicolo: | 11 |
Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-34250643224 |
Codice identificativo ISI: | WOS:000247306000037 |
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.2740335 |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/23293 |
Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione