Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Daldosso, N.; Das, G.; Larcheri, S.; Mariotto, G.; Dalba, G.; Pavesi, L.; Irrera, A.; Priolo, F.; Iacona, F.; Rocca, F.

doi:10.1063/1.2740335

CINECA IRIS Institutional Research Information System

IRIS è l'Anagrafe della ricerca dell'Università degli Studi di Trento, e ha lo scopo di raccogliere, documentare, diffondere e conservare le informazioni relative alla produzione scientifica degli autori afferenti all'Università degli Studi di Trento.

Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition / N. Daldosso ; G. Das ; S. Larcheri ; G. Mariotto ; G. Dalba ; L. Pavesi ; A. Irrera ; F. Priolo ; F. Iacona ; F. Rocca. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 101:11(2007), pp. 113510-1-113510-7.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11572/23293

Titolo:	Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
Autori Unitn:	Daldosso, Nicola Larcheri, Silvia Mariotto, Gino Dalba, Giuseppe Pavesi, Lorenzo
Anno di pubblicazione:	2007
Titolo del periodico:	JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/23293
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

Citazioni
ND
ND

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione