Composition and resistivity changes of reactively sputtered W-Si-N thin films undervacuum annealing

Vomiero, A.; Boscolo Marchi, E.; Mariotto, G.; Quaranta, A.; Della Mea, G.; Ottaviani, G.; Tonini, R.; Butturi, M.; Martinelli, G.

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Composition and resistivity changes of reactively sputtered W-Si-N thin films undervacuum annealing / A. Vomiero ; E. Boscolo Marchi ; G. Mariotto ; A. Quaranta ; G. Della Mea ; G. Ottaviani ; R. Tonini ; M. Butturi ; G. Martinelli. - In: APPLIED PHYSICS LETTERS. - ISSN 0003-6951. - STAMPA. - 88:3(2006), pp. 031917-1-031917-3.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11572/23220

Titolo:	Composition and resistivity changes of reactively sputtered W-Si-N thin films undervacuum annealing
Autori Unitn:	Mariotto, Gino Quaranta, Alberto Della Mea, Gianantonio
Anno di pubblicazione:	2006
Titolo del periodico:	APPLIED PHYSICS LETTERS
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/23220
Appare nelle tipologie:	03.1 Articolo su rivista (Journal article)

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