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EnglishComposition and resistivity changes of reactively sputtered W-Si-N thin films undervacuum annealing / A., Vomiero; E., Boscolo Marchi; Mariotto, Gino; Quaranta, Alberto; Della Mea, Gianantonio; G., Ottaviani; R., Tonini; M., Butturi; G., Martinelli. - In: APPLIED PHYSICS LETTERS. - ISSN 0003-6951. - STAMPA. - 88:3(2006), pp. 031917-1-031917-3.
| Titolo: | Composition and resistivity changes of reactively sputtered W-Si-N thin films undervacuum annealing |
| Autori: | A., Vomiero; E., Boscolo Marchi; Mariotto, Gino; Quaranta, Alberto; Della Mea, Gianantonio; G., Ottaviani; R., Tonini; M., Butturi; G., Martinelli |
| Autori Unitn: | |
| Titolo del periodico: | APPLIED PHYSICS LETTERS |
| Anno di pubblicazione: | 2006 |
| Numero e parte del fascicolo: | 3 |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11572/23220 |
| Appare nelle tipologie: | 03.1 Articolo su rivista (Journal article) |
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