Layout and Process Improvements to Double-Sided Silicon 3D Detectors Fabricated at FBK

Povoli, Marco; Dalla Betta, Gian Franco; Bagolini, A.; Boscardin, M.; Giacomini, G.; Mattedi, Francesca; Zorzi, Nadia

doi:10.1109/NSSMIC.2012.6551326

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Layout and Process Improvements to Double-Sided Silicon 3D Detectors Fabricated at FBK / M. Povoli, G. Franco Dalla Betta, A. Bagolini, M. Boscardin, G. Giacomini, F. Mattedi, N. Zorzi. - ELETTRONICO. - (2012), pp. 1334-1338. ((Intervento presentato al convegno 2012 IEEE NSS-MIC tenutosi a Anaheim nel 29 Ottobre - 3 Novembre 2012.

Titolo:	Layout and Process Improvements to Double-Sided Silicon 3D Detectors Fabricated at FBK
Autori Unitn:	Povoli, Marco Dalla Betta, Gian Franco A. Bagolini M. Boscardin G. Giacomini Mattedi, Francesca Zorzi, Nadia mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Anno di pubblicazione:	2012
Handle:	http://hdl.handle.net/11572/96348
ISBN:	9781467320283
Appare nelle tipologie:	04.1 Saggio in atti di convegno (Paper in proceedings)

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