Anisotropic etching rates in TMAH solutions of different Si crystallographic orientation as a function of film stress / V., Guarnieri; A., Bagolini; F., Giacomozzi; B., Margesin; Zen, Mario; M., Decarli; R., Pal; Soncini, Giovanni. - (2002). ((Intervento presentato al convegno International Workshop on New Developments on Sensors for Environmental Control tenutosi a Lecce nel 27-29 maggio 2002.
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Titolo: | Anisotropic etching rates in TMAH solutions of different Si crystallographic orientation as a function of film stress | |
Autori: | V., Guarnieri; A., Bagolini; F., Giacomozzi; B., Margesin; Zen, Mario; M., Decarli; R., Pal; Soncini, Giovanni | |
Autori Unitn: | ||
Titolo del volume contenente il saggio: | Sensors for Environmental Control | |
Casa editrice: | World Scientific Publishing | |
Anno di pubblicazione: | 2002 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/53922 | |
Appare nelle tipologie: | 04.1 Saggio in atti di convegno (Paper in Proceedings) |
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