A particular photo-CVD apparatus for hydrogenated amorphous silicon deposition / C., Manfredotti; F., Fizzotti; C., Osenga; M., Boero; V., Rigato; Quaranta, Alberto. - 258:(1992), p. 165. ((Intervento presentato al convegno Materials Research Society Symposium tenutosi a Boston nel 1992.
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Titolo: | A particular photo-CVD apparatus for hydrogenated amorphous silicon deposition | |
Autori: | C., Manfredotti; F., Fizzotti; C., Osenga; M., Boero; V., Rigato; Quaranta, Alberto | |
Autori Unitn: | ||
Casa editrice: | MRS - Proceedings | |
Anno di pubblicazione: | 1992 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11572/53625 | |
Appare nelle tipologie: | 04.1 Saggio in atti di convegno (Paper in Proceedings) |
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