Formation of vanadium silicide by high dose ion implantation

Dapor, Maurizio;
1987-01-01

1987
V., Salvi; A., Narsale; S., Vidwans; A., Rangwala; L., Guzman; Dapor, Maurizio; G., Giunta; L., Calliari; F., Marchetti
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11572/83904
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact